Преподаватель: д.ф.-м.н., проф. Рахимов Александр Турсунович
Семестр: осенний семестр аспирантуры
Количество зачетных единиц: 3 з.е
Специальности: 01.04.15
О курсе
Целью читаемого спецкурса является ознакомление аспирантов с технологическими плазменными процессами, используемыми в современной микротехнологии.
В рамках курса аспирантам рассказывается о современных источниках низкотемпературной плазмы, о неравновесных процессах, протекающих в объеме плазмы. Также рассказывается о плазменных и химических процессах, определяющих характер формирования поверхностных структур, в частности рассказывается о плазменном травлении и о физических проблемах литографии с использованием плазменных источников. Большое внимание уделяется физическим проблемам создания новых материалов, перспективных для развития элементной базы микроэлектроники.