Разряды в скрещенных электрическом и магнитном полях являются ключевым элементом многих современных технологий. Так, магнетронные распылители стали наиболее распространенным инструментом нанесения функциональных и защитных покрытий. В ОМЭ изучаются физические процессы в DC и RF магнетронных разрядах, влияющие на скорость и качество наносимых покрытий. В частности, исследуются неустойчивости магнетронного разряда, приводящие к нарушению однородности плазмы (см. рис.2). Эта тема представляет фундаментальный интерес для физики ExB разрядов и в настоящее время является предметом многочисленных публикаций. Проведенные ранее исследования явлений в неидеальной плазме позволили создать методы нанесения покрытий на левитирующие в плазме микрочастицы. Результаты исследований использованы при получении покрытий на поверхности различных порошковых материалов, которые являются основой для изготовления таких композитов, как сверхтвердая алмазная керамика, износостойкие материалы с низким коэффициентом трения, эффективные катализаторы. Разрабатываются методы нанесения композитных триботехнических и коррозионностойких покрытий.
Руководитель группы: в.н.с., д. ф.-м. н. Паль Александр Фридрихович